LS 13 320 XR 粒度分析儀

幫助您發現微小差異的重大改進。

LS 13 320 XR 利用先進的 PIDS 技術*，提供同級產品中最佳的粒度分佈資料，可進行高解析度量測，並擴大動態範圍。與 LS 13 320一樣，XR 粒度分析儀提供快速、精確的結果，並可協助您簡化工作流程以優化效率。一些重大改進可幫助您可靠地發現可能對您的粒度分析數據產生巨大影響的微小差異

  • 直接量測範圍從 10 奈米 - 3,500 微米
  • 自動結果通過/未通，以加速品質控制
  • 增強的軟體可簡化標準化量測方法的建立
  • 新的控制標準可充分驗證儀器/模組效能
Tech Docs FAQs 21 CFR Part 11 Capabilities Features

LS 13 320 XR 粒度分析儀特點

找出微小差異

  • 擴大量測範圍： 10 奈米 - 3,500 微米
  • 雷射繞射 Laser diffraction 先進的偏振強度差分 (plus advanced Polarization Intensity Differential Scattering, PIDS) 技術，可實現高解析度的量測，並提供低至 10 奈米的真實數據報告
  • 可準確、可靠地檢測單一樣本中的多種顆粒尺寸

簡單易用的軟體

  • ADAPT 軟體 具備自動通過/失敗檢查功能
  • 預先設定的方法只需點擊 3 次或更少即可得到結果
  • 簡化的分析儀操作
  • 一鍵覆蓋歷史數據
  • 直觀的使用者診斷功能，讓您在取樣期間隨時掌握資訊
  • 簡化標準化測量的方法建立

ADAPT 軟體支援 21 CFR Part 11

  • 可自訂安全系統，滿足各種需求
  • 從 4 種安全層級中選擇
  • 高安全性配置支援 21 CFR Part 11

PIDS* 技術可直接檢測 10 nm 顆粒

  • 三種波長 (450, 600, & 900 nm) 的垂直與水平偏振光照射樣品
  • 分析儀測量樣品在不同角度的散射光
  • 每個波長的水平與垂直輻射光之間的差異可產生高解析度的顆粒尺寸分佈資料

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